NK2000/04氨茶堿注射液高剪切膠體磨

簡(jiǎn)要描述：NK2000/04氨茶堿注射液高剪切膠體磨
注射液高剪切膠體磨，注射液管線式高剪切膠體磨，注射液分體式管線式高剪切膠體磨，注射液衛(wèi)生級(jí)膠體磨，注射液醫(yī)藥級(jí)膠體磨，氨茶堿注射液管線式高剪切膠體磨是一種高速剪切研磨設(shè)備，CIK注射液膠體磨Z高轉(zhuǎn)速可到14000rpm，是國(guó)產(chǎn)膠體磨的3-4倍，可以達(dá)到國(guó)產(chǎn)設(shè)備達(dá)不到的效果。IKN注射液膠體磨可以使注射液里面的顆粒處理到足夠細(xì)，達(dá)到醫(yī)藥級(jí)標(biāo)準(zhǔn)。

產(chǎn)品型號(hào)：

所屬分類(lèi)：高剪切膠體磨

更新時(shí)間：2024-08-23

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NK2000/04氨茶堿注射液高剪切膠體磨

高剪切膠體磨運(yùn)行原理：

高剪切膠體磨在電動(dòng)機(jī)的高速轉(zhuǎn)動(dòng)下物料從進(jìn)口處直接進(jìn)入高剪切破碎區(qū)，通過(guò)一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團(tuán)、粘塊、團(tuán)塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎區(qū)，在十分狹窄的工作過(guò)道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對(duì)高速切割從而產(chǎn)生強(qiáng)烈摩擦及研磨破碎等。在機(jī)械運(yùn)動(dòng)和離心力的作用下，將已粉碎細(xì)化的物料重新壓入精磨區(qū)進(jìn)行研磨破碎，精磨區(qū)分三級(jí)，越向外延伸一級(jí)磨片精度越高，齒距越小，線速度越長(zhǎng)，物料越磨越細(xì)，同時(shí)流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級(jí)流體的方向速度瞬間發(fā)生變化，并且受到每分鐘上千萬(wàn)次的高速剪切、強(qiáng)烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等，在經(jīng)過(guò)三個(gè)精磨區(qū)的上千萬(wàn)次的高速剪切、研磨粉碎之后，從而產(chǎn)生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達(dá)到分散、粉碎、乳化、均質(zhì)、細(xì)化的目的。液料的zui小細(xì)度可達(dá)0.5um。

NK2000/04氨茶堿注射液高剪切膠體磨

高剪切膠體磨主要用途：

高剪切膠體磨適用于制藥、食品、化工及其它行業(yè)的濕物料超微粉碎，能琪到各種半濕體及乳狀液物質(zhì)德粉碎、乳化、均質(zhì)和混合，主要技術(shù)指標(biāo)已達(dá)到國(guó)外同類(lèi)產(chǎn)品的先進(jìn)水平。

CIK膠體磨轉(zhuǎn)速:

7890/13789RPM可以通過(guò)變頻調(diào)速通過(guò)皮帶加速我們軸承可以承受140000RPM（轉(zhuǎn)速是他們的3-4倍，研磨的力度也是他們的3-4倍，這樣研磨的細(xì)度更?。?。

CIK膠體磨結(jié)構(gòu)：

三道磨碎區(qū)，一級(jí)為粗磨碎區(qū)，二級(jí)為細(xì)磨碎區(qū)，三級(jí)為超微磨碎區(qū)。雖然都是三級(jí)結(jié)構(gòu)，但是他們的設(shè)計(jì)不同理念不同，形狀及齒列的結(jié)構(gòu)。

CIK膠體磨磨頭的結(jié)構(gòu)：

溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下，而他們的斜齒的每個(gè)磨頭的溝槽深度一樣，流道體積是一樣大，這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進(jìn)行研磨，而他們只能在一級(jí)磨頭到另外一級(jí)磨頭形成研磨效果。

德國(guó)進(jìn)口雙端面機(jī)械密封擁有*結(jié)構(gòu)和特殊材質(zhì)保證高速運(yùn)轉(zhuǎn)和長(zhǎng)使用壽命

滿(mǎn)足以下條件使得機(jī)械密封的使用壽命更長(zhǎng):

-可允許的壓力比率

-充份的冷卻和濕度

-材料的合適搭配.

CIK密封件為雙端面集裝式密封，耐壓性好，超高轉(zhuǎn)速下?lián)碛袃?yōu)異的密封表現(xiàn)。配有壓力平衡罐，充入適當(dāng)壓力可保證機(jī)封上下端面受力平衡，同時(shí)運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)可通過(guò)自身偏心結(jié)構(gòu)的帶來(lái)的泵環(huán)效應(yīng)和熱虹吸效應(yīng)實(shí)現(xiàn)冷卻水的自動(dòng)循環(huán)。該循環(huán)系統(tǒng)為獨(dú)立系統(tǒng)，與外界無(wú)接觸，平衡罐內(nèi)冷卻液可選純化水或合適的溶劑，有效避免普通冷卻自來(lái)水壓力不穩(wěn)和含有少量顆粒雜質(zhì)對(duì)機(jī)封帶來(lái)的損壞。