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德國CIK 石墨烯氧化鋯陶瓷研磨分散機

德國CIK 石墨烯氧化鋯陶瓷研磨分散機

簡要描述:石墨烯陶瓷分散設(shè)備,石墨烯陶瓷膠體磨 ,德國CIK 石墨烯氧化鋯陶瓷研磨分散機是過陶瓷膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

產(chǎn)品型號: NKCD2000

所屬分類:化工級研磨分散機

更新時間:2024-12-14

詳細說明:

石墨烯陶瓷分散設(shè)備,石墨烯陶瓷膠體磨 ,德國CIK 石墨烯氧化鋯陶瓷研磨分散機是過陶瓷膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

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石墨烯(Graphene)是一種二維碳材料,是單層石墨烯、雙層石墨烯和少層石墨烯的統(tǒng)稱。石墨烯一直被認為是假設(shè)性的結(jié)構(gòu),無法單獨穩(wěn)定存在,直至2004年,英國曼徹斯特大學(xué)物理學(xué)家安德烈·海姆(Andre Geim)康斯坦丁·諾沃肖洛夫(Konstantin Novoselov),成功地在實驗中從石墨中分離出石墨烯,而證實它可以單獨存在,兩人也因在二維石墨烯材料的開創(chuàng)性實驗",共同獲得2010年諾貝爾物理學(xué)獎。并且,石墨烯在自然界也有產(chǎn)出,它體現(xiàn)為高能物理狀態(tài)下的圈量子的粒子態(tài)相。

當前石墨烯產(chǎn)業(yè)化存在五大難點:石墨烯制備成本較高,良品率有待提升;主流制備方法各有優(yōu)劣,工藝不穩(wěn)定,技術(shù)有待改善;前期研發(fā)投入資金需求量大;下游需求方向尚不十分明確,需求藍海難估;產(chǎn)業(yè)鏈延伸需要各環(huán)節(jié)配套,與下游需求對接尚待時日。


德國CIK 石墨烯氧化鋯陶瓷研磨分散機的分散效果

影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點

1 分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)

2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)

3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)

4 物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)

5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)


線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) 
g -轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
CIK -轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm


速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60


    高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,新浪輕工公司在CRS2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出CRX2000超高速剪切乳化機機。其剪切速率可以超過200.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達到66m/s

陶瓷分散設(shè)備的參數(shù)

陶瓷膠體磨

流量

輸出

線速度

功率

入口/輸出連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW


 NKCD 2000/4

50

9,000

23

2.2

DN25/DN15

  NKCD 2000/5

200

6,000

23

7.5

DN40/DN32

 NKCD 2000/10

500

4,200

23

22

DN50/DN50

 NKCD 2000/20

1500

2,850

23

37

DN80/DN65

 NKCD 2000/30

3000

1,420

23

55

DN150/DN125

  NKCD 2000/50

6000

1,100

23

110

DN200/DN150

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為"的測定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

石墨烯陶瓷分散設(shè)備,石墨烯溶液 

信息來源于:www.ciksh。。com 



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