簡要描述：CIK頭孢噻肟鈉研磨分散機，轉(zhuǎn)速高達14000rpm，剪切力強，是國內(nèi)設備的4-5倍。研磨分散機是膠體磨和分散機的一體化設備，磨頭結(jié)構(gòu)、分散盤的結(jié)構(gòu)，也更適合細胞破碎、細胞破壁。采用博格曼雙端面機械密封，并配有機封冷卻系統(tǒng)，可供工業(yè)化生產(chǎn)24小時運行。分體式結(jié)構(gòu)，通過皮帶提速，可根據(jù)調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速，滿足不同細胞破碎要求，合適的轉(zhuǎn)速，合理的剪切力不易導致產(chǎn)品變性失活。
產(chǎn)品型號： NKD2000/4
所屬分類：醫(yī)藥級研磨分散機
更新時間：2024-08-25
適用于敏感細菌所致的肺炎及其他下呼吸道感染、尿路感染、腦膜炎、敗血癥、腹腔感染、盆腔感染、皮膚軟組織感染、生殖道感染、骨和關(guān)節(jié)感染等。頭孢噻肟可以作為小兒腦膜炎的選用藥物。
一日2～6g，分2～3次靜脈注射或靜脈滴注；嚴重感染者每6～8小時2～3g，一日zui高劑量不超過12g。治療無并發(fā)癥的肺炎鏈球菌肺炎或急性尿路感染，每12小時1g。
新生兒日齡小于等于7日者每12小時50mg/kg，出生大于7日者，每8小時50mg/kg。治療腦膜炎患者劑量可增至每6小時75mg/kg，均以靜脈給藥。
嚴重腎功能減退病人應用本品時須適當減量。血清肌酐值超過424μmol/L(4.8mg)或肌酐清除率低于20ml/分時，本品的維持量應減半；血清肌酐超過751μmol/L(8.5mg)時，維持量為正常量的1/4。需血液透析者一日0.5～2g。但在透析后應加用1次劑量。
CIK頭孢噻肟鈉研磨分散機，轉(zhuǎn)速高達14000rpm，剪切力強，是國內(nèi)設備的4-5倍。研磨分散機是膠體磨和分散機的一體化設備，磨頭結(jié)構(gòu)、分散盤的結(jié)構(gòu)，也更適合細胞破碎、細胞破壁。采用博格曼雙端面機械密封，并配有機封冷卻系統(tǒng)，可供工業(yè)化生產(chǎn)24小時運行。分體式結(jié)構(gòu)，通過皮帶提速，可根據(jù)調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速，滿足不同細胞破碎要求，合適的轉(zhuǎn)速，合理的剪切力不易導致產(chǎn)品變性失活。
【分散機的結(jié)構(gòu)及特點】
研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。
NKD2000系列研磨分散機的特點：
① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
NKD2000/4 | 300-1，000 | 9，000 | 23 | 2.2 | DN25 | DN15 |
NKD2000/5 | 3，000 | 6，000 | 23 | 7.5 | DN40 | DN32 |
NKD2000/10 | 8，000 | 4，200 | 23 | 15 | DN50 | DN50 |
NKD2000/20 | 20，000 | 3，000 | 23 | 37 | DN80 | DN65 |
NKD2000/30 | 40，000 | 1，500 | 23 | 55 | DN150 | DN125 |
NKD2000/40 | 70，000 | 1，500 | 23 | 90 | DN150 | DN125 |
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