實驗室膠體磨，中試型膠體磨

簡要描述：實驗室膠體磨，中試型膠體磨，日化混合攪拌設(shè)備，德國膠體磨，上?；旌显O(shè)備廠家，cik膠體磨細(xì)化作用一般來說要弱于均質(zhì)機，但它對物料的適應(yīng)能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進(jìn)行細(xì)化。

產(chǎn)品型號： NK2000

所屬分類：實驗室膠體磨

更新時間：2024-12-16

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【產(chǎn)品介紹】

  本機組是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果

   NK2000系列膠體磨是專門B針對那些需要很好乳化和分散效果的生產(chǎn)。NK2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

CIK膠體磨與傳統(tǒng)膠體磨比較

☆ 高效、節(jié)能
傳統(tǒng)設(shè)備需8小時的分散加工過程，NK設(shè)備1小時左右完成，超細(xì)分散*，能耗極大降低；

☆ 高速、高品質(zhì)
傳統(tǒng)設(shè)備的攪拌轉(zhuǎn)速每分鐘幾十轉(zhuǎn)，帶分散功能的轉(zhuǎn)速每分鐘1500轉(zhuǎn)以內(nèi)，只完成宏觀分散加工，超細(xì)分散能力極為有限；NK設(shè)備的轉(zhuǎn)速每分鐘10000～15000轉(zhuǎn)之間，超高線速度產(chǎn)生的剪切力，瞬間超細(xì)分散漿料中的粉體。

影響分散研磨結(jié)果的因素有以下幾點

  1 、膠體磨磨頭頭的剪切速率 （越大，效果越好）

  2 、膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）

  3 、物料在分散墻體的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）

  4 、循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）

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線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) 
g 定-轉(zhuǎn)子間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
CIK 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm 

速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60

產(chǎn)品選型表

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